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净化车间在电子工业生产中起到的作用

作者: 点击:651 发布时间:2021-03-29

近年来,大量试验和实践表明,将N0x、S0x、NaCl-等物质带入洁净车间无尘车间产生的污染物质中,还包括极细空气中的N0x、S0x、NaCl-、硼和DOP等微粒;极细玻璃纤维产品中的硼和DOP微粒;使用人员本身产生的NH、Na*等污染物;洁净车间原材料散发的各类有机化合物、金属离子;以及生产过程中使用的溶剂、洗涤液散发的各类化学污染物等。

所以对化学分子态污染物(AirbomlMolecularContaminants.简称AMC)的预防提到了日常,可以预见,随着超大规模集成电路芯片工艺的不断发展,用于去除分子态污染物、化学污染物的空气净化器,以及相应的检测手段,将得到广泛应用,并得到不断改进。

电子学与洁净车间工艺在电子产品的生产过程中,对洁净工作环境的规定较高,

例如:电真空器件-彩色显象管,显示装置,电子类材料生产,光纤与光纤通信产品,精密电子仪器,电子计算机组装,光盘,磁性记录设备,半导体元器件和集成电路芯片等。

特别是集成电路芯片生产的高速发展,其特征规格日益微细化,集成度日益提高,目前使用的0.09am超大规模集成电路芯片规定控制洁净室空气洁净度为IS01级,控制微粒粒径为0.03am;因此近年来随着超大规模集成电路芯片发展的需要,洁净工艺的发展也日新月异,可以说,电子产品的不断升级带来了洁净度的不断发展,从3级空气洁净度,0.5am控制粒径发展到目前国际标准ISO14644-1的空气洁净度基本等级9级,控制粒径分为0.1|±m,0.2|JLm,0.3|JLrn,0.5|xm等多种粒径规定。

电子行业生产过程中对工作环境的控制规定,不仅对洁净室空气的清洁度有严格的规定,而且对与电子行业生产过程直接接触的各类高纯介质,如高纯水、高纯气、高纯化学品等的纯度杂质含量等都有严格的控制规定;某些电子行业还对振动、静电、电磁干扰、供电等方面有较严格的规定。


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